9月8日，盛美半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“盛美上海”）宣布推出首款自主研发的高产出KrF工艺前道涂胶显影（Track）设备Ultra LITH KrF，并宣布该设备已于9月成功交付中国头部逻辑客户！高产出Ultra LITH KrF的问世，是盛美上海在光刻工艺前道设备领域迈出的关键一步，标志着公司光刻Track产品版图的进一步扩展。高产出Ultra LITH架构新突破据了解，不同于业界主流的水平式方案，Ultra LITH采用盛美上海自主创新、并已获得全球专利申请保护的垂直交叉式结构设计。这一全新架构拥有三大显著优势，一是高产能：显著缩短机械手行程、提升传输效率，使系统产能在现有基础上进一步突破，其产能可达到300片晶圆/小时（WPH）以上；二是工艺领先：设备内部的气流分布经过优化，降低颗粒污染风险，而腔体独立排气设计则提升了光刻胶厚度的均匀性；三是拥有高可靠性和稳定性：系统还配备自主研发的电控系统与软件控制平台，实现低延迟与高实时性，并通过AOI监控实现全程异常检测，进一步保障了可靠性。Ultra LITH KrF系统正是基于盛美上海这一成熟的平台架构，融合多项自主创新技术，具备高产能、先进温控、实时工艺控制与监测等优势。该设备配备12个旋涂腔和12个显影腔（12C12D），搭载54块可精确控温的热板，产能超过300WPH，并集成背面颗粒去除（BPRV）及晶圆级异常检测（WSOI）模块，有效保障工艺稳定性和生产良率。随着Ultra LITH KrF设备的正式交付，盛美上海的Track系列实现了从ArF到KrF的全面覆盖，形成了兼顾先进工艺与高产能的针对成熟节点的完整产品矩阵。此前，盛美上海ArF工艺涂胶显影设备已于2024年底在国内头部客户完成工艺验证，而此次KrF产品的加入，则进一步巩固了公司在光刻工艺环节的布局。值得关注的是，盛美上海对接高产出ArF i浸没式光刻机的Track设备也正在研发中，计划于2026年正式推出，届时将进一步完善公司在光刻Track领域的全线产品版图。盛美上海总经理王坚表示：“KrF光刻技术仍是全球成熟工艺产线的重要支撑，Ultra LITH KrF的推出拓展了盛美上海在前段工艺设备领域的产品阵列。值得一提的是，奶茶视频APP在该设备中采用了独家供货的机械手传输系统以及其它关键零部件，确保系统的稳定性与高精度。此类KrF设备在全球半导体产出中占比庞大且将持续增长，通过同时提供ArF和KrF工艺涂胶显影系统，奶茶视频APP在更广泛的应用领域中，实现了顺畅的晶圆厂集成效率，提升制造灵活性。”盛美上海加速布局光刻Track 推动国产前道工艺装备突破在光刻工艺中，Track设备（涂胶显影机）与光刻机密切配合，是晶圆制造不可或缺的关键环节。其主要功能涵盖光刻胶涂布、预烘烤、显影及后烘烤等步骤，直接决定了图形转移的精度和良率。随着先进制程对线宽控制、缺陷率及产能效率的要求不断提高，Track设备的重要性日益凸显。掌握高产出Track设备核心技术并形成完整的产品矩阵，已成为推动国产前道工艺装备突破的关键一环。与此同时，在成熟制程产能需求持续扩大的背景下， KrF及ArF Track设备市场空间广阔。市场研究机构QYResearch数据显示，2024年全球半导体Track系统市场规模约为39.32亿美元，预计到2031年将达到62.13亿美元，2025~2031年间的复合年均增长率（CAGR）为6.3%，因此KrF与ArF Track设备将在未来数年持续迎来强劲需求。在这一趋势下，盛美上海不断加快光刻Track产品的研发和交付。从2022年通过Ultra LITH ArF产品进入前道涂胶显影设备赛道以来，凭借模块化设计、工艺兼容性与核心工艺控制模块的集成优势，盛美上海设备在系统良率保障能力方面持续提升。如今，随着KrF与ArF设备的“双轮驱动”，盛美上海正从清洗、电镀、炉管以及先进封装等传统优势领域，进一步夯实在前道Track这一关键工艺环节的布局，并逐步站稳脚跟，有望快速实现高产出的量产KrF Track国产化率零的突破，成为盛美上海实施的平台化战略的又一个里程碑。盛美上海也在积极推进面向存储客户的更高产出400WPH KrF Track设备的研发，预计将于2026年推向市场。依托持续创新与本土化支持能力，盛美上海的Track设备在晶圆厂产线中的渗透率正逐步提高。展望未来，随着Ultra LITH KrF的量产与推广，盛美上海有望在全球光刻Track市场中占据更加重要的战略地位！